磁控溅射系统介绍
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真空泵和测量装置:
低真空:干泵和convectron真空规
高真空:涡轮分子泵,全自动磁控溅射沉积系统多少钱,低温泵和离子规
5.控制系统:
硬件:PLC和计算机触摸屏控制
自动和手动沉积控制
主要特点:
射频电源:基底预先清洗和等离子体辅助沉积
温度控制器:基底加热
大面积基底传送装置
冷却系统
磁控溅射镀膜设备的主要用途
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商,我们为您带来以下信息。
1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。
2.时装装饰领域的应用,比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜,可适用在手机外壳、鼠标等产品上。
3.微电子行业领域中,其是一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气象沉积上。
4.在光学领域中用途巨大,比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。
5.在机械行业加工中,磁控溅射沉积系统多少钱,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能,能够延长物品使用周期。
直流磁控溅射技术的原理
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业生产、销售磁控溅射产品,我们公司坚持用户为上帝,想用户之所想,急用户之所急,800型磁控溅射沉积系统多少钱,以诚为本,讲求信誉,以产品求发展,以质量求生存,我们热诚地欢迎各位同仁合作共创辉煌。
直流磁控溅射技术其原理是:在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动,其运动路径变长,CK450A磁控溅射沉积系统多少钱,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增大,从而磁控溅射速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作,降低薄膜污染的倾向;另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。