脉冲激光沉积细节介绍
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力(>100 Torr)下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,PLD450型激光镀膜设备生产厂家,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离,PLD450型激光镀膜设备,对沉积条件进行较大的控制。
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脉冲激光沉积系统的特点有哪些?
? **高真空不锈钢腔体
? 可集成热蒸发源或溅射源
? 可旋转的耐氧化基片加热台
? 流量计或针阀准确控制气体流量
? 标准真空计? 干泵与分子泵
? 可选配不锈钢快速进样室
? 可选配基片-靶材距离自动控制系统
? 是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、**晶格的较佳设备
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脉冲激光沉积机制
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PLD的系统设备简单,相反,它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时,激光与物质之间的所有物理相互作用,亦包括等离子羽状物的形成,其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移,及膜的生成过程。所以,PLD一般可以分为以下四个阶段:
1. 激光辐射与靶的相互作用
2. 熔化物质的动态
3. 熔化物质在基片的沉积
4. 薄膜在基片表面的成核(nucleation)与生成。