台式磁控溅射仪定做-磁控溅射仪定做-沈阳鹏程

卧式磁控溅射镀膜机

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产磁控溅射产品，欢迎新老客户莅临。

主要用途：　　

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。　　

系统组成:　　

主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。

小型磁控溅射镀膜系统简介

小型磁控溅射镀膜系统适合于快速溅射镀膜科研、教学与小批量打样，可快速、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。

具有一体化、占用空间小、灵活的特点，*380V工业电，CK300三靶磁控溅射仪定做，*额外冷水机，采用无油干泵分子泵组，*操心真空系统和操作间环境泵油污染。

核心部件采用国际*品牌，台式磁控溅射仪定做，保证设备具有优异的质量与稳定可靠性。触摸屏控制界面，带来简单、操作方便的体验。

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真空镀膜的厚度均匀性主要取决于什么？

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售磁控溅射产品，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等

对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，磁控溅射仪定做，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，桌式350型三靶磁控溅射仪定做，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率